1、 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜,并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。
2、 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。
3、 研究结果表明,磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。
4、 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。
5、 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。
6、 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。
7、 在双元靶严格解的基础上,证明了泽优溅射与原子的半径
溅(jiàn jiān)
射(shè yè yì)