基本解释：低能物理学
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Research and Development of Plasma-based Low-energy Ion Implantation;等离子体基低能离子注入技术的研究与发展
Plasma-based low-energy ion implantation, including plasma source ion nitriding and plasma source ion carburizing, has been emerged as a low-temperature, low-pressure modification approach for steel.等离子体基低能离子注入是一种钢的低温、低压表面改性方法，它包括等离子体源离子渗氮和等离子体源离子渗碳两种工艺等离子体基低能离子注入的主要传质机制是低能离子注入一同步热扩散，即在低脉冲负偏压作用下的离子首先完成不依赖于工艺温度的低能离子注入，然后己注入的原子在较低的工艺温度下发生足够的热扩散等离子体热扩散吸收具有补充的传质作用，但由于工艺温度较低，这种作用很小连续的热扩散过程有利于改善注入吸收条件，等离子体湮没也可以防止已注入原子的反向逸出，二者对传质过程具有促进作用。
16 cm diameter low energy broad beam ion source;16厘米低能强流宽束离子源
In the paper a series of multicusp low energy broad beam ion sources are described.由于采用新型多会切磁场和优化的引出系统,该系列源在薄膜辅助沉积的能量(200~1000eV)范围内,具有良好的低能特性和束流分布均匀性,可使用反应气体或惰性气体工作。
